市場と用途
電池、太陽光、およびフレキシブル・エレクトロニクス向けの機能的ALD成膜。Genesis ALDはロール型基板の成膜や多機能用途に最適です。
- 各種リチウム・イオン電池および固体電池の陰極および陽極のパッシベーション
- フレキシブル太陽電池の導電層および封止
- フレキシブル・エレクトロニクスの防水層
いかにしてALDがより安全性および性能の高い電池を実現するかをご覧ください
材料選定
要件を満たす幅広いALD材料。長年にわたり、BeneqはR&Dおよび工業生産向けのロール・ツー・ロールALDシステムを開発してきました。当社が通常使用する材料にはAl₂O₃、TiO₂、ZnO、ZnS、SiO₂などがあり、ご要望に応じて他の材料にもご対応します。
主な機能的特徴
- ウェブ幅： 最大420mm
- ALD膜厚： 最大100nm
- 動的蒸着速度 (Al2O3): 10nm*m/min
- 処理温度： 最高250
カスタマイズ
最大ウェブ幅が420mmと、Genesis ALDは実験室でのR&Dやパイロット規模での生産に適しています。ポリマや金属などのフレキシブル基板においてALD膜を処理するよう設計されています。当社のパートナでありロール・ツー・ロール真空成膜装置の大手企業であるE+Rグループと共同で、ウェブの幅を広げラインを統合するオプション設計をご提供しています。
