超高速かつ高精密のSpatial ALD成膜
Beneq C2R™は、当社のクラスタ対応装置ファミリーの中のSpatial ALDメンバーです。
Beneq C2Rはプラズマ励起式ALD（PEALD）プロセスをこれまでにないレベルへと引き上げます。つまり、PEALDを量産に用いることができます。プラズマ励起式回転ALDプロセスにより、Beneq C2Rは最大厚さが数マイクロメートルのALD厚膜に最適です。
Beneq C2Rは光学膜やバリアなどの工業用途における高性能ALDのための最適なソリューションをご提供します。
スピード、コスト、処理温度の低さ、そして可能な限り高い膜質が重要な要素となる場合において、Beneq C2Rは最適な製品です。
主な技術的特徴
- 最大で1時間当たり数マイクロメートルと、極めて速い蒸着速度
- バッチ式PEALDプロセスにより200mmウェハに7枚まで対応可能
- 最大厚さ30mmのレンズおよびその他3次元基板向け
- 膜厚の均一性が高く、要求の厳しい光学膜用途に最適
- ロード・ロックまたはウェハ自動化機能が搭載可能。