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半導体製造ALD装置
Beneq Transform®は、これまでに類のないALDクラスタ・ツールです。サーマルバッチ式およびプラズマ強化式両方のALDプロセス・モジュールを独自に組み合わせたBeneq Transform®は、ウェハ生産能力を満たすために、複数のALDプロセス・モジュールを用いてシーケンス処理をする比類なき柔軟性を提供します。また、生産量の増加や新たなALDプロセスに合わせアップグレードが可能な設計がなされています。
BENEQ Transform®
Beneq Transform®は、パワーエレクトロニクス、MEMS（微小電子機械システム）やセンサ、RF（高周波）、LED（発光ダイオード）、フォトニクス、および封止用途に適した、ワン・ストップかつ生産へのリリースが即座に可能なALDソリューションです。サーマルALDモジュールおよびプラズマALDモジュールの両方を備え、枚葉処理またはバッチ処理を行うことができます。当社独自の予熱モジュールが待機時間を削減するうえ、スループットを50nmのAl2O3をサーマルモードにて処理した場合に1時間当たりウェハ15枚と全く新しいレベルへ引き上げます。また、サーマルまたはプラズマプロセスモジュールをさらに最大2つ追加することで、スループットをなお一層高めることができます。
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BENEQ Transform® Lite
生産量に合わせ汎用性を最大化。Beneq Transform® Liteには、大型タイプのTransform®と同じサーマル、プラズマ、および予熱モジュールが搭載されており、R&Dや試作のみならず量産にも適しています。表面の前処理を行うことができること、また3～8インチのウェハサイズでの基板材に成膜が可能です。BENEQ Transform® Liteをお使い頂くことで、さまざまなデバイスや用途に対し複数の異なるALDプロセスを1台分の設置面積ですべて行うことができます。
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Beneq Transform® 300
Beneq Transform® 300はサーマルALD（バッチ式）技術とプラズマALD（枚葉式）技術を結合して作られた300mm専用のALDクラスタ・ツールで、IDM（垂直統合型デバイスメーカー）やファウンドリへ汎用性の高いプラットフォームを提供します。Transform® 300は、CIS（CMOSイメージセンサ）、パワー半導体、マイクロ有機LED（OLED）／LED、高度パッケージング、およびその他モア・ザン・ムーア（MtM）デバイスの量産向けの、高アスペクト比トレンチを含むゲート誘導体から反射防止膜、ファイナル・パッシベーションや封止などに至るまでの広範な高度薄膜用途に特化されています。
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Beneq Prodigy™
Beneq Prodigy™はALDを用いて実現可能な化合物半導体（CS）やMEMSデバイスの量産に関する新たな基準を打ち立てます。この製品は、RF集積回路（IC）（GaAs／GaN／InP）やLED、垂直キャビティ面発光レーザ（VCSEL） 、光検出器を含む化合物半導体、およびさまざまなウェハのサイズおよび種類において最善な組み合わせのパッシベーション膜および封止膜を提供するMEMSに最適な製造ソリューションです。最新のALD技術が搭載された低コストのバッチ・ツールを用いて75～200mmのウェハでのデバイス性能を高める、シンプルでありながら洗練されたソリューションの良さを是非お確かめください。
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