ALD研究開発向け装置

Beneqは学術研究および企業のR&Dにおいて最も多く設置されているALD装置のプロバイダです。当社の製品は、マルチ・ユーザの研究環境においてクロスコンタミを最小限に抑えるよう設計されてきました。最も厳しい研究要件に対し広範なオプションとアップグレードをご提供します。

デュアル・チャンバ構造およびメタルシールで構成されているALDツールは交差汚染を最小限に低減します。TFS 200は、広範なオプションと自動化により、研究と生産の両方に対応します。不活性ガス・バルブがプリカーサ残留物の反応チャンバへの進入を防ぎ、短いALDサイクルを実現します。

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TFS 200のすべての機能を備えたTFS 500は、より大きな規模で同一の機能を果たします。より大きな反応チャンバが、300mmのウェハ、太陽電池、および粉末の処理を可能にします。前面へのアクセスが可能なため、媒体から大きな3次元の物体に至るまでロードおよびアンロードを容易に行えます。

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製品 TFS 200 TFS 500

寸法 720 x 1340 x 1280 mm 1600 x 900 x 1930 mm

チャンバ容積 200 x 95 mm （直径×高さ） 200 x 170 mm （直径×高さ）

用途研究、生産研究、生産

統合クラスタクラスタ

温度範囲 25-500 °C 25 – 500 °C

超低蒸気圧プリカーサ Yes Yes

TFS 200 TFS 500

製品 TFS 200

寸法 720 x 1340 x 1280 mm

チャンバ容積 200 x 95 mm （直径×高さ）

用途研究、生産

統合クラスタ

温度範囲 25-500 °C

超低蒸気圧プリカーサ Yes

TFS 200

製品 TFS 500

寸法 1600 x 900 x 1930 mm

チャンバ容積 200 x 170 mm （直径×高さ）

用途研究、生産

統合クラスタ

温度範囲 25 – 500 °C

超低蒸気圧プリカーサ Yes

TFS 500

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