空间 ALD 设备

Genesis ALD

全球唯一的市售卷对卷ALD原子层沉积系统

Genesis ALD

市场和应用

适用于电池,太阳能和柔性电子产品的功能性ALD镀膜。Genesis ALD可将高品质原子层沉积膜连续沉积到柔性基底卷上,是多种功能性应用的理想选择。

  • 各种类型的锂电池和固态电池的阴极和阳极钝化
  • 柔性太阳能电池的导电层和封装
  • 柔性电子产品的防潮层

了解ALD技术如何提升电池性能

材料选择

ALD薄膜材料选择广泛,可满足您的生产需求。多年来, Beneq 率先开发了用于研发和工业生产的卷对卷ALD原子层沉积系统。我们常用的材料包括 Al₂O₃, TiO₂, ZnO, ZnS, SiO₂ 或其他客户要求的材料。

技术优势

  • 卷宽:基底宽度可达到 420mm
  • ALD膜层厚度:最厚 100nm
  • 动态沉积速率(Al₂O₃): 10 nm *m/min
  • 工艺温度:最高 250℃

技术规格

定制化

Genesis ALD的最大卷宽可达到420mm,适用于科研或中试规模的生产。产品设计是将 ALD 薄膜沉积在聚合物或金属之类的柔性基底材料上。我们与领先的卷对卷真空腔公司E + R Group合作,为客户提供定制化设计,以满足客户对卷宽和生产线集成的更高要求。

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