市场和应用
适用于电池，太阳能和柔性电子产品的功能性ALD镀膜。Genesis ALD可将高品质原子层沉积膜连续沉积到柔性基底卷上，是多种功能性应用的理想选择。
- 各种类型的锂电池和固态电池的阴极和阳极钝化
- 柔性太阳能电池的导电层和封装
- 柔性电子产品的防潮层
材料选择
ALD薄膜材料选择广泛，可满足您的生产需求。多年来, Beneq 率先开发了用于研发和工业生产的卷对卷ALD原子层沉积系统。我们常用的材料包括 Al₂O₃, TiO₂, ZnO, ZnS, SiO₂ 或其他客户要求的材料。
技术优势
- 卷宽：基底宽度可达到 420mm
- ALD膜层厚度：最厚 100nm
- 动态沉积速率(Al₂O₃): 10 nm *m/min
- 工艺温度：最高 250℃
定制化
Genesis ALD的最大卷宽可达到420mm，适用于科研或中试规模的生产。产品设计是将 ALD 薄膜沉积在聚合物或金属之类的柔性基底材料上。我们与领先的卷对卷真空腔公司E + R Group合作，为客户提供定制化设计，以满足客户对卷宽和生产线集成的更高要求。
