Beneq P800专用于为形状复杂的大零件或大批量生产的小零件镀膜。我们的客户将P800用于光学涂层、半导体设备部件的防腐涂层镀膜，以及玻璃或金属板上ALD的各种应用。
大型零件需要大型ALD工具。Beneq P800通常用于批量处理直径大于600mm的零件。大批量处理能力还可以降低小型零件的镀膜成本，使ALD在许多应用领域具有商业可行性。
600mm
常用基底直径
设计和设置
每个客户的要求都是独一无二的。我们根据每个客户的基底和应用来选择和设计最佳的工具设置和ALD工艺。P800的设计保证了可在反应腔和基底支架的不同设置之间轻松切换。这种内置的多功能性意味着客户可以使用相同的ALD系统顺利地从研发过渡到批量生产。Beneq为客户提供量身定制的应用开发以及试生产支持，帮助客户在掌握自己的ALD制造能力之前进行测试。
可选反应腔示例。可根据客户要求提供最终设计。
厚膜堆叠
适用于厚膜堆叠(＞1 μm)的理想ALD工具。大批量生产过程中的厚膜堆叠需要大量的前驱体并产生大量残留物和副产品。我们的P800配备了大容量前驱体源和前驱体去活和过滤系统，以应对这些挑战。Beneq P800是35年以上厚度大于1μm的薄膜堆叠工业生产开发的成果。稳定可靠，可全天候使用。
前驱体
氧化物、氮化物、硫化物、金属等。选择正确的工艺和前驱体材料可能很困难。何时使用高温与低温？前驱体材料使用是否安全？咨询Beneq的专家，为您的应用找到合适的材料或材料组合。P800可以从室温升高到550℃，并且可以轻松处理气态、液态和固态前驱体，包括有毒、自燃和腐蚀性前驱体材料。
维护
维护更简单，维护频率更低。用于沉积厚膜堆叠的ALD工具通常需要每月清洁一次。P800配备的大容量泵管线过滤器具有自动过滤清洁功能，可保证P800即使在大批量生产期间也能运行数月而无需进行维护。此外，更换ALD反应腔通常需要一整天时间，因为需要先等它们冷却下来。而P800将这一过程缩短到了几分钟，用户只需拉出反应腔和其他需要清洁的零件即可。
多腔设计
避免不必要的维护停机时间。Beneq P800使用多个反应腔，在每次运行之间交替使用，因此可以最大限度地减少与维护相关的生产停机时间。
预热烘箱
Beneq独有的预热器。可选的预热烘箱缩短了加热时间，并且能进一步提高镀膜能力。
