Beneq P400A专用于各种基底的镀膜，其针对加工处理的批量大小进行了优化，大批量加工时足以显著提高产能，小批量加工时足以保持批次内的出色均匀性，缩短加工时间。我们的客户将P400A用于光学涂层的镀膜，以及玻璃或金属板上ALD的各种应用。

批量生产ALD

大小刚刚好。Beneq P400A通常用于批量处理直径范围为20mm到300mm的基底。批量处理设置可针对特定零件、板材、晶圆或其他基底进行优化。

每次可处理的平基底的总面积高达8m²。  

设计和设置

每个客户的要求都是独一无二的。联系我们，帮助您选择和设计最适合您的基底和应用的工具设置和ALD工艺。

P400A采用多功能设计，可在反应腔和基底支架的不同设置之间轻松切换。这意味着客户可以使用相同的ALD系统从研发顺利过渡到批量生产。Beneq为客户提供量身定制的应用开发以及试生产支持，帮助客户在掌握自己的ALD制造能力之前进行测试。

 

厚膜堆叠

适用于厚膜堆叠(＞1 μm)的理想ALD工具。大批量生产过程中的厚膜堆叠需要大量的前驱体并产生大量残留物和副产品。为了解决这些问题，P400A配备了大容量前驱体源以及前驱体去活和过滤系统。

Beneq P400A是35年以上厚度大于1μm的薄膜堆叠工业生产开发的成果，稳定可靠，可全天候使用。

前驱体

氧化物、氮化物、硫化物、金属等。选择正确的工艺和前驱体材料可能很困难。何时使用高温与低温？前驱体材料使用是否安全？

咨询我们的专家，为您的应用找到合适的材料或材料组合。Beneq P400A可在室温至550℃的温度范围内轻松处理气态、液态和固态前驱体，包括有毒、自燃和腐蚀性前驱体材料。 

维护

维护更简单，维护频率更低。用于沉积厚膜堆叠的ALD工具通常需要每月清洁一次。P400A配备的大容量泵管线过滤器具有自动过滤清洁功能，可保证P400A即使在大批量生产期间也能运行数月而无需进行维护。

由于需要冷却，更换ALD反应腔可能需要一整天的时间，但P400A将其缩短到了几分钟。操作员只需拉出反应腔和其他需要清洁的零件即可。

多腔设计

避免不必要的维护停机时间。Beneq P400A有多个反应腔，在每次运行之间交替使用，因此可以最大限度地减少与维护相关的生产停机时间。

预热烘箱

Beneq独有的预热器。可选的预热烘箱缩短了加热时间，并且能进一步提高镀膜能力。 

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