Beneq在芬兰Espoo建立了全新的净化间和应用实验室。新净化间设施包含一个350平方米的 ISO7 净化间和一个150平方米的 ISO5 半导体ALD应用实验室。
Beneq采用先进的净化间建造技术和布局设计，在原厂房基础上增加了占地约350平方米的 ISO7 净化间，用于ALD设备的工艺研发、组装、设计和测试服务。
“自2019年，Beneq Transform™ ALD设备面世以来，我们已经看到半导体行业的客户对原子层沉积设备有巨大的需求。”Beneq ALD业务副总裁Tommi Vainio博士表示，“与半导体应用实验室一起，新的净化间将全力支持Beneq在超摩尔市场包括功率器件、射频RF、图像传感器、MEMS、化合物半导体、LED和Micro-LED、OLED等领域的快速增长。”
全新净化间是Beneq通过ISO 9001认证体系的一部分。 它还拥有一个现代化的半导体应用实验室，专为超摩尔应用市场设计开发灵活可靠的ALD解决方案。Beneq还扩大了其现有的无尘室设施，以确保最大的使用率和安全性。
全新的净化间设施于2020年12月正式投入生产。之前，Beneq公司已拥有1900平方米的无尘室设施，仍将继续为我们的客户服务。