Beneq C2荣获复合半导体高产量生产奖

长期以来，提高原子层沉积 ALD 设备的能力并将 ALD 从研究实验室转移到工业生产一直是 Beneq 薄膜解决方案的目标。近来，我们的工作重点是开发用于半导体行业中晶圆处理的高容量 ALD 解决方案。

2017年11月，Beneq C2 正式面市。这是一种与集群兼容的自动原子层沉积系统，主要用于晶圆的工业化加工。它在市场上引起了巨大的轰动。我们已经向客户交付了第一批设备，现在又收到了几笔新订单。

现在，我们很高兴地宣布，Beneq C2 的创新功能及其沉积速度和容量已经得到了业界专业人士的高度认可。

Beneq C2 在 CS 国际会议上获得“高产能生产奖”

Beneq C2 是与集群兼容的设备组合中的自动晶圆原子层沉积解决方案，并且荣获 CS 行业大奖中的“高产能生产”类别奖项，这是由业界专业人士从入围名单中投票选出的他们最喜欢的产品。

氮化镓（GaN）高电子迁移率晶体管（HEMT）在新一代节能型功率开关应用中具有巨大潜力，但这些器件需要优质保形的电介质。高容量的热等离子体增强原子层沉积系统可以创建高度保形的介电层，从而解决氮化镓高电子迁移率晶体管器件在高产能生产中所面临的诸多挑战。

Beneq C2 将晶圆原子层沉积设备的生产能力提升到一个全新的水平。在新兴的超摩尔半导体市场中，它为工业应用中的晶圆高性能原子层沉积提供了最佳解决方案。例如功率和射频设备、射频和压电式微机电系统、微机电系统传感器和执行器、图像传感器、光子集成电路和有机发光二极体微显示屏。

2018年CS大奖 –— 奖励卓越、创新与成功

复合半导体芯片的销售猛增，这得益于固态照明的普及、智能手机盈利的增加、光网络容量的扩增以及节能型电力电子设备的广泛应用。

CS 行业大奖的设立旨在展示复合半导体行业中的公司成功。该奖项旨在表彰领导者、创新工程师以及在满足半导体市场客户需求方面表现出色的人员。

Beneq 期待与您相聚于4月10日至11日在比利时布鲁塞尔举行的 CS 国际会议

Beneq 有幸参加国际复合半导体展会和会议。

如果您也参加此次活动，那么 Beneq的销售总监 Mikko Söderlund 将于4月10日星期二13:45进行的演讲是不容错过的。该演讲的主题是为超摩尔应用而设计的大容量晶圆级解决方案。

活动期间，您也可以前往我们的展台。

如果您想预约了解有关在半导体行业即将发生的原子层沉积产能革命的最新消息，那么请通过我们的活动网页与我们联系。

在超快原子层沉积领域，Beneq 是不二之选。