晶圆厂设备
BENEQ Transform™ 和 Transform™ Lite
Beneq Transform™
Beneq Transform™ Lite
一个平台,多种配置
BENEQ Transform™凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。Beneq Transform™配置多个ALD工艺模块,以满足特定的晶圆产能要求,也可为应对不断增长的产量或新的ALD应用而进行升级。
PEALD
Thermal
兼容热法和等离子体增强ALD工艺模块
单片、批量、热法及等离子体增强功能集成在同一平台上。适用于广泛的高性能氧化物和氮化物。 为客户提供了灵活、可靠、高产能的ALD解决方案。
Beneq Transform™凭借灵活的自动化平台,热法和等离子体增强的ALD工艺模块集成在一个系统中的独特能力,在工艺制备中可满足最苛刻的薄膜沉积要求,并提供无与伦比的灵活性。
专为晶圆厂设计
工业标准的水平晶圆装载可实现即插即用的无缝集成。配备独特的预热模块,可减少数小时的等待时间,并将产能提升到一个全新的水平 。
SEMI 认证
完全符合 SEMI S2/S8 和 SECS/GEM 标准。为客户提供定制化服务,确保在批量生产中顺利过渡到 ALD 工艺。
新闻 |
今天,ALD 技术拥有稳定的发展趋势以及作为替代沉积技术的优势,在超摩尔器件领域中引起了广泛关注。
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新闻 |
Beneq Transform™ 采用热法和等离子 ALD、单片晶圆或批量工艺与独特的预热模块有效组合,最大限度地提高了批量生产的可选择性。
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博客 |
原子层沉积 ALD 被认为是发挥终极保护作用的防潮镀膜。借助 ALD 技术,可以创建更薄的防潮层,并更有效地阻隔湿气和蒸汽。
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博客 |
超薄 ALD 防潮保护可应用于生产过程的不同阶段:晶圆级、芯片级封装或模块级和/或 PCBA。
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博客 |
Beneq 的使命是将 ALD 技术引入到全新的工业应用中。我们的计划是推动ALD 在半导体行业中的产能革命。
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博客 |
Beneq 专门研究大容量和高通量的原子层沉积解决方案。我们将大容量原子层沉积方面的专业知识应用于高产能需求市场的晶圆研究及工业晶圆加工,从而使我们的客户受益。
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