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晶圆厂设备

自动化 ALD 平台为实现大批量晶圆生产提供了有效的解决方案。BENEQ Transform™ 可提供批量和等离子工艺以及独特的预热模块。我们的晶圆厂设备非常适合进行大批量生产,满足各种基于晶圆的应用,包括 MEMS、功率器件、光学、 OLED等。


BENEQ Transform™

BENEQ Transform™ 是电力电子、MEMS 和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的一站式 ALD 解决方案。其采用全新的集群设计,即在一个全自动平台上将热法和等离子 ALD 与单晶圆和批量工艺相结合,从而为客户提供卓越的灵活性。它专有的预热模块可减少数小时的等待时间,并将生产量提升到一个全新的水平:热模式下 15 wph @50 nm Al2O3。该产品还新增了多达2个热处理或等离子体模块,从而进一步提高生产量。

Transform™ 产品

BENEQ Transform™ Lite

小身材大能力。BENEQ Transform™ Lite 和体型更大的 Transform™ 一样,可以提供热法和等离子体 ALD 工艺及预热模块。从研发、原型设计到批量生产,Transform™ Lite 在整个工艺中都能发挥有效的作用。它能进行表面预处理,在3至8英寸的晶圆基底材料上进行镀膜。通过 Transform™ Lite,客户可以选择在多个设备和应用程序上操作不同的 ALD 工艺。而所有这一切都是在一个平台上完成的!

Transform™ Lite 产品

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产品 Transform™ Lite Transform™ C2R
尺寸 3000 x 1200 x 1950 mm 3000 x 3000 x 1950 mm 3784 x 1350 x 1950 mm
腔体容量 200 mm x 25 wafers 200 mm x 25 wafers 200 mm x 7 wafers
应用 Production Production Production
可集成模块 Cluster, up to 2 ALD modules Cluster, up to 3 ALD modules Cluster, stand alone ALD module
晶圆预热模块 (预热器) Yes Yes No
温度范围 25 – 400 ℃ 25 – 400 ℃ 25 – 200 ℃
产品 Transform™ Lite
尺寸 3000 x 1200 x 1950 mm
腔体容量 200 mm x 25 wafers
应用 Production
可集成模块 Cluster, up to 2 ALD modules
晶圆预热模块 (预热器) Yes
温度范围 25 – 400 ℃
Transform™ Lite
产品 Transform™
尺寸 3000 x 3000 x 1950 mm
腔体容量 200 mm x 25 wafers
应用 Production
可集成模块 Cluster, up to 3 ALD modules
晶圆预热模块 (预热器) Yes
温度范围 25 – 400 ℃
Transform™
产品 C2R
尺寸 3784 x 1350 x 1950 mm
腔体容量 200 mm x 7 wafers
应用 Production
可集成模块 Cluster, stand alone ALD module
晶圆预热模块 (预热器) No
温度范围 25 – 200 ℃
C2R

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