高精度空间 ALD 设备

高精度空间 ALD 系统可连续沉积在大面积的柔性基底上，用于研发和生产。并可根据您的需求来定制。

Genesis ALD

全球唯一的市售卷对卷ALD原子层沉积系统。适用于电池，太阳能和柔性电子产品的功能性ALD镀膜。Genesis ALD可将高品质原子层沉积膜连续沉积到柔性基底卷上，是多种功能性应用的理想选择。

Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 首次将 PEALD 应用于大批量生产。通过消除前驱物的脉冲和吹扫，并采用了可旋转的空间 PEALD 技术，Beneq C2R 成为理想的原子层沉积厚膜设备，可沉积薄膜厚度达到微米级别。