空间 ALD 设备

Beneq WCS 600

Beneq WCS 600 是用于研发和试生产的卷对卷原子层沉积系统。

2060x 2340 x 2150 mm

尺寸

R&D/Production

应用

Up to 10 m/min

卷绕速度

Up to 150 ºC

工艺温度范围

工艺类型
Thermal spatial ALD
Single-sided coating
应用
R&D
Production
基底类型
Polymer
Metal
Flexible glass
Width up to 625 mm
卷绕速度
Up to 10 m/min
主要尺寸
2060x 2340 x 2150 mm
可集成模块
Stand-alone
Line integrated
工艺温度范围
Up to 150 ºC
基底尺寸(卷宽)
Up to 625 mm
基底材料
flexible web such as polymer, metal, glass or paper
卷绕速度
0.05 – 10 m / min
卷重
Up to 30 kg
动态沉积重量
10 nm*m / min (for AI2O3)
控制系统
PLC control with PC user interface
ALD系统主要尺寸 (L × W × H)
2060 × 2340 × 2150 mm
前驱体供料系统主要尺寸 (L × W × H)
1750 × 800 × 1530 mm
电气控制柜主要尺寸 (L × W × H)
1010 × 320 × 1220 mm

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