Beneq WCS 600
与我们其他的 ALD 设备相似,在真空压力下运行时,通过同时保持压差和排气/吹扫/排气结构(留有空间让基底材料通过) 来实现 ALD 设备前端的前驱体分离。ALD 设备前端可前后摆动,可在聚合物、金属和柔性玻璃等基底上实现高达10米/分钟的滚动速度。
WCS 600 产品与我们其他的 ALD 设备相似,在真空压力下运行时,通过同时保持压差和排气/吹扫/排气结构(留有空间让基底材料通过) 来实现 ALD 设备前端的前驱体分离。ALD 设备前端可前后摆动,可在聚合物、金属和柔性玻璃等基底上实现高达10米/分钟的滚动速度。
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