Beneq WCS 600
与我们其他的 ALD 设备相似，在真空压力下运行时，通过同时保持压差和排气/吹扫/排气结构（留有空间让基底材料通过) 来实现 ALD 设备前端的前驱体分离。ALD 设备前端可前后摆动，可在聚合物、金属和柔性玻璃等基底上实现高达10米/分钟的滚动速度。
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产品
WCS 600
P800
尺寸
2060 x 2340 x 2150 mm
3200 x 1340 x 2460 mm
基底宽度
625 mm continuous web feed
600 mm x 800 mm sample
基底厚度
20 – 200 um
300 mm chamber height
卷绕速度
0.05 – 10 m/min
n/a
温度范围
25 – 150 C
50 – 500 C
产品
WCS 600
尺寸
2060 x 2340 x 2150 mm
基底宽度
625 mm continuous web feed
基底厚度
20 – 200 um
卷绕速度
0.05 – 10 m/min
温度范围
25 – 150 C
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P800
尺寸
3200 x 1340 x 2460 mm
基底宽度
600 mm x 800 mm sample
基底厚度
300 mm chamber height
卷绕速度
n/a
温度范围
50 – 500 C
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