标准反应腔

反应腔 RC-200/18 AL 和 RC-200/18 SS

• 适用于晶圆和扁平样品。
• 最大基底尺寸：直径200毫米，高度18毫米。
• 对高沉积率和出色的均匀性进行优化。
• 横流前驱体传递。
• 可选材质为铝（RC-200/18 AL）、不锈钢（RC-200/18 SS）或钛。
• RC-200/18 AL 建议连续使用的最高温度为350°C。
• RC-200/18 SS 最高温度为500°C。

反应腔 RC-200/95 AL 和 RC-200/95 SS

• 适用于晶圆批处理或3D样品。
• 直径200毫米，高度95毫米。
• 对高沉积率进行优化。
• 横流前驱体传递。
• 最大晶圆直径200毫米。
• 可定制基底架。
• 晶圆盒可容纳25片晶圆。
• 可选材质为铝（RC-200/95 AL）或不锈钢（RC-200/95 SS）
• RC-200/95 AL 建议连续使用的最高温度为350°C。
• RC-200/95 SS 最高温度为500°C。

叠卷式反应腔专用晶圆盒

WC-100/25, WC-150/25 和 WC-200/25

• 适用于25个片晶圆批处理（最大限度）。
• 与反应腔RC-200/95 组合使用。
• 材质：铝。
• 建议最高温度为350°C。
• WC-100/25 用于100毫米晶圆（直径）。
• WC-150/25 用于150毫米晶圆。
• WC-200/25 用于200毫米晶圆。

负载制动反应腔

LL-RC-200/18 AL 和 LL-RC-200/18 SS

• 适用于带有200毫米晶圆适配器的单片晶圆和扁平样品。
• 最大基底直径200毫米，高度18毫米。
• 对高沉积率和出色的均匀性进行优化。
• 横流前驱体传递。
• 可选材质为铝（RC-200/95 AL）或不锈钢（RC-200/95 SS）。
• RC-200/95 AL 建议连续使用的最高温度为350°C。
• RC-200/95 SS 最高温度为500°C。

LL-RC-200×200

• 适用于200×200 毫米的矩形平板玻璃基底。
• 基底厚度1 … 6毫米（带适配器）。
• 非常适合敏感颗粒沉积处理。
• 也可用于正面朝下的处理工序！
• 对高沉积率和出色的均匀性进行优化。
• 横流前驱体传递。
• 可选材质为铝和不锈钢。
• 需要从加载装置进行Z轴移动。
• 建议最高温度为200°C。