Beneq Transform®

今天，ALD 技术拥有稳定的发展趋势以及作为替代沉积技术的优势，在超摩尔器件领域中引起了广泛关注。

Beneq Transform™ 采用热法和等离子 ALD、单片晶圆或批量工艺与独特的预热模块有效组合，最大限度地提高了批量生产的可选择性。

原子层沉积 ALD 被认为是发挥终极保护作用的防潮镀膜。借助 ALD 技术，可以创建更薄的防潮层，并更有效地阻隔湿气和蒸汽。

超薄 ALD 防潮保护可应用于生产过程的不同阶段：晶圆级、芯片级封装或模块级和/或 PCBA。

Beneq 的使命是将 ALD 技术引入到全新的工业应用中。我们的计划是推动ALD 在半导体行业中的产能革命。

Beneq 专门研究大容量和高通量的原子层沉积解决方案。我们将大容量原子层沉积方面的专业知识应用于高产能需求市场的晶圆研究及工业晶圆加工，从而使我们的客户受益。