1200 x 600 x 1630
尺寸
4
液源
500 kg
重量
1 or 3
气源
主要尺寸
1200mm x 600mm x 1630mm (W x D x H)
重量
500 kg
液源
液源数量
4
容量
50 ml
温度范围
RT…40 ºC
等离子腔体
200 mm x 3 mm (effective diameter x height)
颗粒镀膜腔体
Flow-through chamber, gross volume 58 ml
反应腔
运行温度范围
50…400 ºC
单晶圆腔体
200 mm x 3 mm (effective diameter x height)
晶圆批量/3D 腔体
200 mm x 95 mm (effective diameter x height)
等离子腔体
200 mm x 3 mm (effective diameter x height)
颗粒镀膜腔体
Flow-through chamber, gross volume 58 ml
真空腔
加热模式
Internal resistive tube heaters with IR reflectors
冷却模式
Air cooling
热源（可选）
热源数量
2
容量
200 ml
温度范围
RT…200 ºC
气源（可选）
气源数量
1 or 3
等离子 ALD (可选)
工作原理
Capacitively coupled plasma at 13.56 MHz
功率
300 W
等离子气体数量
2
扩散增强ALD 高深径比 (可选)
工作原理
Controlled reduction of exhaust flow to enhance precursor diffusion to high-aspect ratio structures