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科研设备
Beneq 是学术研究和企业研发应用中,安装次数最多的 ALD 设备供应商。我们产品的目标是最大程度减少多用户研发环境中的交叉污染; 满足客户研发过程中所面临的各种选项和升级等严苛要求。

Beneq TFS 200
ALD 工具拥有双腔体结构和全密封金属表面,可最大程度地减少交叉污染。TFS 200 通过大量的可选项和自动化技术跨越了从研发到生产的难关。惰性气体阀门可防止前驱体残留进入反应腔,从而确保有效的 ALD 循环。
TFS 200 产品Beneq TFS 500
与 TFS 200 相比,TFS 500 在更大范围内具有相同的功能。更大的反应腔使其能够处理300毫米的晶圆,太阳能电池和粉末。正面设计可轻松加载和卸载大中型的3D物体。
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产品
R2
TFS 200
TFS 500
尺寸
720 x 1340 x 1280 mm
720 x 1340 x 1280 mm
1600 x 900 x 1930 mm
腔体容量
200 x 3 mm (diameter x height)
200 x 95 mm (diameter x height)
200 x 170 mm (diameter x height)
应用
Research
Research, Production
Research, Production
可集成模块
Stand Alone
Cluster
Cluster
温度范围
25-400 °C
25-500 °C
25 – 500 °C
极低蒸汽压前驱体
No
Yes
Yes
产品
R2
尺寸
720 x 1340 x 1280 mm
腔体容量
200 x 3 mm (diameter x height)
应用
Research
可集成模块
Stand Alone
温度范围
25-400 °C
极低蒸汽压前驱体
No
R2 产品
产品
TFS 200
尺寸
720 x 1340 x 1280 mm
腔体容量
200 x 95 mm (diameter x height)
应用
Research, Production
可集成模块
Cluster
温度范围
25-500 °C
极低蒸汽压前驱体
Yes
TFS 200 产品
产品
TFS 500
尺寸
1600 x 900 x 1930 mm
腔体容量
200 x 170 mm (diameter x height)
应用
Research, Production
可集成模块
Cluster
温度范围
25 – 500 °C
极低蒸汽压前驱体
Yes
TFS 500 产品