科研设备

Beneq R2

可紧凑。可扩展。完美的 ALD 研发设备基础价格为130,000欧元。

1200 x 600 x 1630

尺寸

4

液源

500 kg

重量

1 or 3

气源

主要尺寸
1200mm x 600mm x 1630mm (W x D x H)
重量
500 kg

液源

液源数量
4
容量
50 ml
温度范围
RT…40 ºC
等离子腔体
200 mm x 3 mm (effective diameter x height)
颗粒镀膜腔体
Flow-through chamber, gross volume 58 ml

反应腔

运行温度范围
50…400 ºC
单晶圆腔体
200 mm x 3 mm (effective diameter x height)
晶圆批量/3D 腔体
200 mm x 95 mm (effective diameter x height)
等离子腔体
200 mm x 3 mm (effective diameter x height)
颗粒镀膜腔体
Flow-through chamber, gross volume 58 ml

真空腔

加热模式
Internal resistive tube heaters with IR reflectors
冷却模式
Air cooling

热源(可选)

热源数量
2
容量
200 ml
温度范围
RT…200 ºC​

气源(可选)

气源数量
1 or 3

等离子 ALD (可选)

工作原理
Capacitively coupled plasma at 13.56 MHz​
功率
300 W​
等离子气体数量
2

扩散增强ALD 高深径比 (可选)

工作原理
Controlled reduction of exhaust flow to enhance precursor diffusion to high-aspect ratio structures​​

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