批量生产设备

Beneq P400A & P800

适用于工业生产的薄膜系统

手动

基底加载

生产

应用

热法 ALD

工艺类型

单机

可集成模块

工艺类型
Thermal ALD
应用
Production
基底类型
Wafers
Glass and metal sheets
3D parts
P400A substrate size: 370 x 470 mm
P800 substrate size: 730 x 1200 mm
基底加载
Manual
主要尺寸
P400: 2400 x 930 x 2420 mm
P800: 3200 x 1340 x 2460 mm
可集成模块
Stand-alone

产品检索

P产品系列

产品 P400A P800
工艺温度范围 25 – 550 °C 25 – 550 °C
真空室尺寸 ø400 mm ø800 mm
反应腔类型和尺寸 Application specific, substrate space, e.g.: – 240 × 240 × 720 mm, with 23 shelf cassette – 370 × 470 x 25 mm, with 2 shelf cassette Application specific, substrate space, e.g.,: – 550 × 310 × 700 mm – 380 × 380 x 900 mm, – 730 x 1200 x 10 mm
前驱体源 5 parallel feeding lines for gas, liquid and solid precursors. Up to 10 precursors possible. 5 parallel feeding lines for gas, liquid and solid precursors. Up to 10 precursors possible.
控制系统 PLC control with PC user interface PLC control with PC user interface
主要尺寸 2400 × 930 × 2420 (mm) 3200 × 1340 × 2460 (mm)
产品 P400A
工艺温度范围 25 – 550 °C
真空室尺寸 ø400 mm
反应腔类型和尺寸 Application specific, substrate space, e.g.: – 240 × 240 × 720 mm, with 23 shelf cassette – 370 × 470 x 25 mm, with 2 shelf cassette
前驱体源 5 parallel feeding lines for gas, liquid and solid precursors. Up to 10 precursors possible.
控制系统 PLC control with PC user interface
主要尺寸 2400 × 930 × 2420 (mm)
产品 P800
工艺温度范围 25 – 550 °C
真空室尺寸 ø800 mm
反应腔类型和尺寸 Application specific, substrate space, e.g.,: – 550 × 310 × 700 mm – 380 × 380 x 900 mm, – 730 x 1200 x 10 mm
前驱体源 5 parallel feeding lines for gas, liquid and solid precursors. Up to 10 precursors possible.
控制系统 PLC control with PC user interface
主要尺寸 3200 × 1340 × 2460 (mm)

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