Beneq P800
完全符合大批量和零件专用 ALD 镀膜的行业标准。它能够对金属氧化物、稀土氧化物、氮化物、硫化物和碳化物进行 ALD 工艺处理。超大空间足以容纳各种反应腔，以实现涂层完美的均匀性，且不受样品大小的影响。获得专利的计量阀和 Beneq 独有的反吸功能可防止任何前驱体泄漏到反应腔中。
P400A 和 P800 产品
Beneq P400A
P400A 的设计主要侧重于结构可靠性，是20多年来 ALD 生产经验的积累。P400A 通过使用单个质量流量控制器将压力关系解耦，仅通过孔口分配载气。只用电磁阀，ALD 就能实现快速定量及可重复性。
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产品
P400A
P800
TFS 500
Transfrom™ Lite
尺寸
2400 × 930 × 2420 mm
3200 × 1340 × 2460 mm
1600 × 900 × 1930 mm
3000 x 1200 x 1950 mm
腔体容量
250 x 250 x 700 mm
600 x 300 x 800 mm
200 x 170 mm (diameter x height)
200 mm x 25 wafers
应用
Production
Production
R&D, Production
Production
可集成模块
Stand-alone
Stand-alone
Cluster
Cluster
基底材料温度
50 – 500 °C
50 – 500 °C
25 – 500 °C
25 – 400 °C
产品
P400A
尺寸
2400 × 930 × 2420 mm
腔体容量
250 x 250 x 700 mm
应用
Production
可集成模块
Stand-alone
基底材料温度
50 – 500 °C
P400A 产品
产品
P800
尺寸
3200 × 1340 × 2460 mm
腔体容量
600 x 300 x 800 mm
应用
Production
可集成模块
Stand-alone
基底材料温度
50 – 500 °C
P800 产品
产品
TFS 500
尺寸
1600 × 900 × 1930 mm
腔体容量
200 x 170 mm (diameter x height)
应用
R&D, Production
可集成模块
Cluster
基底材料温度
25 – 500 °C
TFS 500 产品
产品
Transfrom™ Lite
尺寸
3000 x 1200 x 1950 mm
腔体容量
200 mm x 25 wafers
应用
Production
可集成模块
Cluster
基底材料温度
25 – 400 °C
Transform™ Lite
