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批量生产设备

最大规模的通用原子层沉积生产系统，适用于各种基底类型和镀膜。轻松将ALD沉积从研发阶段扩展到量产阶段。

Beneq P400A

P400A的设计主要侧重于结构稳定性，是20多年来ALD生产经验的积累。P400A通过使用单个质量流量控制器来将压力关系解耦，仅通过孔口分配载气。只用电磁阀，ALD就能实现快速定量及可重复性。

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Beneq P800

完全符合大批量和零件专用ALD镀膜的行业标准。它能够对金属氧化物、稀土氧化物、氮化物、硫化物和碳化物进行ALD工艺处理。超大空间足以容纳各种反应腔，以实现涂层完美的均匀性，且不受样品大小的影响。获得专利的计量阀和Beneq独有的反吸功能可防止任何前驱体泄漏到反应腔中。

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P1500

Beneq P1500

全球最大的ALD反应器。采用独特设计，可给面积非常大的基底和大批量生产3D组件镀膜。配备大容量前驱体源、可旋转反应腔和可选的最大型ALD预热炉。

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产品 P400A P800 TFS 500 Transform™ Lite
尺寸 2400 × 930 × 2420 mm 3200 × 1340 × 2460 mm 1600 × 900 × 1930 mm 3000 x 1200 x 1950 mm
腔体容量 250 x 250 x 700 mm 600 x 300 x 800 mm 200 x 170 mm (diameter x height) 200 mm x 25 wafers
应用 Production Production R&D, Production Production
可集成模块 Stand-alone Stand-alone Cluster Cluster
基底材料温度 50 – 500 °C 50 – 500 °C 25 – 500 °C 25 – 400 °C
P400A P800 TFS 500 Transform™
产品 P400A
尺寸 2400 × 930 × 2420 mm
腔体容量 250 x 250 x 700 mm
应用 Production
可集成模块 Stand-alone
基底材料温度 50 – 500 °C
P400A
产品 P800
尺寸 3200 × 1340 × 2460 mm
腔体容量 600 x 300 x 800 mm
应用 Production
可集成模块 Stand-alone
基底材料温度 50 – 500 °C
P800
产品 TFS 500
尺寸 1600 × 900 × 1930 mm
腔体容量 200 x 170 mm (diameter x height)
应用 R&D, Production
可集成模块 Cluster
基底材料温度 25 – 500 °C
TFS 500
产品 Transform™ Lite
尺寸 3000 x 1200 x 1950 mm
腔体容量 200 mm x 25 wafers
应用 Production
可集成模块 Cluster
基底材料温度 25 – 400 °C
Transform™
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