纳米技术应用
Markus Bosund 博士将在2018年3月23日，在阿尔托大学电子与纳米工程系，举行一场关于原子层沉积 ALD 和纳米技术的博士论文答辩，绝对值得一看！
Markus Bosund 的博士论文答辩主题是关于 Development of Atomic Layer Deposition Processes for Nanotechnology Applications.
ALD 是一种基于表面控制的薄膜沉积。在涂覆期间，两种或更多种化学蒸汽或气态前驱体在基底表面上按顺序发生反应，从而形成固体薄膜。
在论文中，Markus 展示了两种用于钝化 GaAs 表面的低温方法，并研究了等离子体增强原子层沉积 PEALD 生长的 AIN 的薄膜特性。
Markus 还提出了一种用于 Yb203 薄膜的新沉积工艺，并研究了二氧化钛薄膜在光催化领域中的应用。光催化过程具有多种用途：它们可用作假体的灭菌方法。
Markus 的主考人是挪威奥斯陆大学的 Ola Nilsen 教授。
祝贺 Markus，也预祝他在周五的论文答辩顺利！