欢迎参加10月7日与SEMI行业研究与统计部门总监 Clark Tseng 进行的有关新一代功率器件的趋势和技术，以及原子层沉积ALD技术如何提高功率器件性能的在线研讨会。 研讨会议题：
- 功率器件的市场需求驱动因素，例如汽车，消费电子产品等
- 功率器件技术，产品设计和制造要求的发展趋势
- 概述和对比发展迅速的功率技术，如硅基SJ-MOSFET或IGBT和宽带隙材料SiC以及GaN
- 在各类沉积工艺中，原子层沉积ALD的优势
- 如何选择应用于功率器件制造的ALD设备平台
Beneq 是原子层沉积ALD技术的起源，提供品类广泛的技术产品和研发服务。 今天，Beneq 已经成为市场的引领者，不仅拥有先进科研设备（TFS 200、R2）、批量生产设备（BENEQ TransformTM）、超快速高精度空间 ALD 设备（C2R）、连续沉积的卷对卷设备（WCS 600）所带来的创新解决方案，而且开发了厚膜叠层（P400、P800）的批量生产。
Beneq 的总部位于芬兰 Espoo，致力于将原子层沉积 ALD 技术投入到各项研究和生产中，并通过工业原子层沉积解决方案推动技术发展的大趋势。