R2 拥有模块化设计和高性价比, 前所未有地降低了 ALD 的研发成本
对于踏入 ALD 研究这一快速发展领域的科研工作者而言，在设备上投资往往面临巨大的不确定因素。大学的研究者往往需要在功能极其有限的入门级系统或 系统成熟价格却异常昂贵的产品设备中作出选择。
R2 系统针对热沉积 ALD 的全部特性度身定制，拥有紧凑的结构和极具竞争力的价格优势。系统内设备符合所有业界标准，为您的 ALD 研究、工艺设计或应用开发赋予出众的价值。R2 拥有与 TFS200 系统完全相同的设计团队，后者的高级可集成 ALD 研究工具深受各大高校和科研机构的喜爱。“R2系统传承了 Beneq领先 ALD 业界25年的技术实力，” Beneq 技术销售经理 Patrick Gonzalez 表示，“标准化 R2 系统的全部功能均可由外部配置实现。通 过 R2, Beneq为各科研提供了薄膜封装，高k介电材料以及介于两者之间的所有应用的设备工具。”
人体工程学设计
为打造一款结构简单、易于使用的系统，Beneq 重新设计了 R2 的外观。为了尽量减少系统需要连接的管道，R2 的液源结构极为紧凑， 且靠近真空腔。不同于传统设计，热源被重新放置在真空腔附近，高度设计合理，便于更换容器、操作设备。Beneq 为 R2 系统创建的位于真空腔上方的空气冷却通风系统目前正在申请专利。该设计可以降低过热风险，避免意外烫伤。
一键升级
Beneq R2 系统采用革命性的模块设计，为客户提供全套用于真空腔、热源或工艺类型的扩展选项，如用于高纵横比结构的扩散增强 ALD 工艺等。用户在输入新命令时可根据自身需要选择配置，或选择稍后更新工具。
更多信息请点击 visit the R2 page。
关于 Beneq
芬兰 Beneq 工厂是 ALD 之家。这是第一个在工业生产中应用原子层沉积的地方。今天，Beneq 是全球领先的 ALD 生产商，提供品类广泛的设备产品和开发服务。
Beneq 凭借先进的 ALD 科研设备（TFS 200、R2)、能灵活地实现大批量生产的 ALD 平台（TransformTM)、超快速高精度空间 ALD 镀膜（C2R)、用于卷对卷薄膜的创新解决方案（WCS 600), 以及较厚的薄膜叠层（P400、P800) 等技术引领业界。
Beneq 总部位于芬兰 Espoo，致力于为更多科研人员提供高品质且具有价格竞争力的 ALD 技术，并为客户在新兴的半导体应用领域带来潜在优势。
市场联系人
吴捷
iris.wu@beneq.com | +8621 3252 8181