今天, ALD 技术已用于主流存储器应用的大批量生产中。
ALD 技术拥有稳定的发展趋势以及作为替代沉积技术的优势, 在超摩尔器件领域中引起了广泛关注。
实际上，功率电子、RF GaN、微机电系统甚至光学等市场已成为推动超摩尔原子层沉积设备市场发展的主要动力。例如：功率半导体器件市场在近几年实现大幅增长，在于2018年达到175亿美元（电力电子行业现状, Yole Développement )。到2024年，整个 RF GaN 市场的规模预计将达到20亿美元（RF GaN 市场：应用、播放器、技术和基板， 2019 Yole Développement )。毫无疑问，这种富有发展前景的技术必然能够发挥积极作用！
在近日宣布推出 Beneq Transform™之后，Beneq 销售总监 Mikko Söderlund 博士接受了 Yole 半导体制造技术与市场分析师 Amandine Pizzagalli 的采访。他在此次访谈中畅谈了有关公司对原子层沉积市场的愿景，并对充满希望的ALD技术谈及了自己的想法。此次访谈摘要如下：
Amandine Pizzagalli: 您能简要介绍一下 Beneq 及其发展历史和目前状态吗？
Dr. Mikko Söderlund: Beneq 被誉为 ALD 之家，主要提供各种相关设备产品和服务。今天，Beneq 已成为全球市场的领导者，不仅拥有用于批量生产（BENEQ Transform™)、高级研发（TFS 200，R2)、连续薄膜沉积的卷对卷 ALD（WCS 600) 的创新解决方案，还开发了厚膜叠层（P400、P800) 的批量生产。Beneq 总部位于芬兰 Espoo，致力于将原子层沉积技术应用于半导体行业，并在新兴设备应用中提供无形的优势。
AP: 您能介绍一下 Beneq ALD 技术应用于超摩尔市场中的发展情况吗？
MS: Beneq 是为超摩尔市场提供原子层沉积生产设备和服务的领先供应商。我们重点关注微机电系统（射频、致动器)、电源（Si和WBG)、CIS、射频、高级封装和光学应用。我们提供的解决方案不仅涵盖前端应用，例如：表面钝化、晶圆级封装、成核层和栅极电介质沉积，而且也囊括了后端解决方案，例如：用于芯片级封装或模块级封装。我们还通过我们位于芬兰的原子层沉积工厂为客户提供演示/勘探和镀膜服务。我们致力于提供令人满意的服务支持解决方案，以协助我们客户的生产需求。
AP: 您能描述 Beneq ALD 应用在超摩尔市场中的新产品组合以及发展规划吗？
MS: 9月25日至26日在 Grenoble 举行的 The MEMS and Imaging Sensors Summit 峰会将作为 BENEQ Transform™的首次亮相。BENEQ Transform™是一种用于超摩尔设备制造的多功能自动原子层沉积平台。该产品的全新集群设计在单个平台上将热和等离子体原子层沉积与单晶圆和批处理相结合，为客户提供了无与伦比的灵活性。BENEQ Transform™完全符合SEMI质量标准，是一站式原子层沉积解决方案，适用于电力电子、微机电系统和传感器、射频、液晶显示屏、光学和高级封装等行业。BENEQ Transform™可产生各种氧化物，包括 Al2O3, HfO2, Ta2O5, TiO2 和 SiO2，也会产生氮化物，例如：AIN 和 TiN。BENEQ Transform™还配备专有的预热模块，不再耗费数小时的等待时间，并将通量提高到一个全新的水平（对于单个热批处理模块 在50 nm Al2O3下为15 wph）。通过添加多达两个热或等离子体处理模块，可以进一步提高吞吐量。使Transform™领先于其他工具的进一步优势在于，无论温度如何（例如：温度>400°C)，它都能扩大吞吐量并保持相同或更好的性能。BENEQ Transform™支持3-8英寸的晶圆尺寸。该设备已全面投产，并已向客户供货。
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文章来源: i-Micronews