热法和等离子 ALD、单片晶圆或批量工艺与独特的预热模块有效组合，最大限度地提高了批量生产的可选择性。
此款产品采用全新的集群设计，即在一个全自动平台上将热法和等离子 ALD 与单晶圆和批量工艺相结合，从而为客户提供无与伦比的灵活性。Beneq TransformTM完全符合 SEMI 质量标准，是电力电子、微机电系统和传感器、射频、液晶显示屏、光子学和先进封装应用的一站式ALD解决方案。
“在当今客户提出的数百个应用请求中，我们最为兴奋的是用于射频和功率管理的GaN器件以及III-V型和硅光电子器件，” Beneq 半导体业务主管 Patrick Rabinzohn 博士表示：“尤其是对于表面钝化、栅极电介质、成核层和封装层而言，Beneq TransformTM是理想的解决方案。”
真正意义上的多功能性
超摩尔（MtM) 应用正在以惊人的速度发展。为了在市场上更具竞争力，制造商们纷纷采用先进的薄膜技术。通常，他们需要将表面处理、界面层和功能层沉积序列进行组合–而所有这些工艺都需要纳入到一个工具中。
目前可用的 ALD 生产系统仅提供一种类型的 ALD 工艺—热增强或等离子增强。因此，对一种能支持多种沉积能力的多功能工具的需求就应运而生。
在单片晶圆或批量生产中，BENEQ TransformTM能够实现热法和等离子 ALD 处理的有效结合，这种模式也易于配置。该产品可进行表面预处理，并可涂覆3至8英寸晶圆的基底材料。从研发、原型设计到批量生产，该产品在整个过程中能够发挥行之有效的作用。通过TransformTM，客户现在可以选择在多个设备和应用程序上运行多个不同的 ALD 流程，而所有这一切都是在一个平台上完成！
最完整的配置包含两个ALD工艺模块，预热站，表面等离子体处理和晶片冷却。
专为晶圆厂设计
与那些具有垂直翻转功能的 ALD 生产平台不同，TransformTM将晶圆装载在水平位置上，并与生产线的其余部分无缝集成。实践证明，这种加载机制可以充分处理问题，并最大限度地减少与非标准盒式批量装载系统相关的颗粒产生。
BENEQ TransformTM 配有专有的预热模块，可减少数小时的等待时间，并将生产量提升到一个全新的水平（在热模式下 15 wph @50 nm Al2O3）。该产品还新增多达2个热处理模块或等离子体，从而进一步提高生产量。
BENEQ TransformTM会产生各种氧化物，包括Al2O3、HfO2、Ta2O5、TiO2和SiO2、以及氮化物，如 AlN 和 TiN。TransformTM与其他工具的区别在于它能够扩大生产量并保持相同的均匀性，不受温度影响，例如：>400℃。
经过 SEMI 认证
BENEQ TransformTM 实施 SECS/GEM 标准，从而缩短了周期时间并加快制造的适应性。它完全符合 SEMI S2/S8 中关于环保、人体工程学和安全操作的要求。
欲了解更多信息，请访问 www.beneq.com/transform
关于 Beneq
芬兰 Beneq 工厂是 ALD 之家。这是第一个在工业生产中应用原子层沉积的地方。今天，Beneq 是全球领先的 ALD 生产商，提供品类广泛的设备产品和开发服务。
Beneq 凭借先进的 ALD 科研设备（TFS 200, R2)、能灵活实现大批量生产的ALD 平台（TransformTM)、超快速的高精度空间 ALD 镀膜（C2R)、用于卷对卷薄膜的创新解决方案（WCS 600)，以及较厚的薄膜叠层（P400, P800) 等技术引领业界。
Beneq 总部位于芬兰 Espoo, 致力于为更多科研人员提供高品质且具有价格竞争力的 ALD 技术，并为客户在新兴的半导体应用领域带来潜在优势。
市场联系
吴捷
iris.wu@beneq.com | +8621 3252 8181