Atomic Layer Deposition (ALD) provides damage-free surface preparation, and is capable of depositing a variety of high-k dielectric layers with excellent step coverage and quality.
您是否在寻找提高功率器件的产量，性能或可靠性的方法？ Beneq原子层沉积（ALD）可实现无损表面制备和各种高k介电层的沉积，并具有出色的台阶覆盖率和质量。Beneq Transform™ ALD平台系统，可实现栅极电介质堆叠沉积，适用于下一代 Si, GaN 和 SiC材料的功率器件。
