OLED 封装
有效阻挡水汽，防止氧化的终极保护
原子层沉积ALD镀膜可提供最佳的无针孔阻挡层，有效阻止因环境造成的薄膜特性的退化。ALD工艺可沉积高保形且无针孔的膜层。通过沉积仅20nm的氧化铝薄膜，我们就能使水汽透过率（WVTR）降低至5×10-6g/m2/天。
Beneq为OLED封装提供可靠的ALD解决方案
倍耐克了解OLED封装。我们的解决方案涵盖了从单晶圆的热ALD和等离子体增强ALD到批量生产25片晶圆的热ALD。适用于200mm和300mm的基底尺寸。我们的ALD设备平台带有内置软件控件，可轻松与OLED微显示屏生产线集成。我们提供face-down和face-up两种配置，安装灵活，始终与您的生产线高度匹配。我们还提供用于高真空集成的涡轮泵选件。
经过OLED微显示屏行业内专家的验证
测量高质量ALD薄膜的水汽透过率是非常有挑战性的。将原子层沉积的薄膜封装工艺应用于OLED器件时，OLED的使用寿命成为至关重要的考虑因素。通常，这比水汽透过率更容易测量，但为了量化防潮性能，需做不同类型的水汽透过率测试。钙测试是最敏感的测试方法之一。下图是Beneq ALD堆层膜在钙测试中的示例。
在温度23°C和相对湿度50%下对100nm Al2O3/TiO2 纳米层进行的钙测试表明: 水汽透过率为3×10-6g/m2 /天。
该数据源于Beneq TFS 200设备在Fraunhofer IAP研究所进行的原子层沉积实验。(感谢Fraunhofer IAP研究所的Christine Boeffel博士提供数据)。
一站式封装解决方案
我们提供多种可用于OLED封装的ALD设备。这些设备平台可与您的生产线无缝集成，同时大大减少了生产时间。无论您是用于科研、中试还是大批量生产，都能从我们提供的多种反应腔选件和配置中找到合适的解决方案。
