行业和应用

半导体设备零部件的抗腐蚀性镀膜

在各种制造工艺中,半导体工艺反应腔组件会接触到高温、高能等离子体、腐蚀性气体的混合物、高应力及其组合。这些极端条件(尤其是在蚀刻和PECVD工具中) 可能会腐蚀反应腔组件,从而在被处理的晶圆上产生有害颗粒并造成金属污染。利用 ALD 镀膜保护半导体工艺反应腔组件,这是减少缺陷并延长其耐用性的有效方法。

Coating Service

随着时间的流逝,所有涂层都会被腐蚀。而多孔涂层在腐蚀过程中会产生更多的颗粒。因此,高密度和低孔隙率是低颗粒污染的关键。

不同的半导体组件面临不同的环境条件。因此,不同的组件需要不同的涂层。 气体输送系统中的组件仅暴露于化学物质,而不暴露于等离子体。蚀刻腔室中的组件则直接暴露于等离子体。

Beneq 对所有镀膜的组件(例如Al2O3 和 Y2O3) 进行完整的批量处理。Beneq 持之以恒地研发镀膜技术,旨在提高半导体工艺的可靠性。

Showerhead part

喷头和蚀刻腔室零部件

通过 ALD 工艺,具有复杂几何形状的制品和表面以及具有高深径比的孔洞和三维结构均能形成均匀厚度的保形薄膜。使用 ALD 技术,与各种氧化物基陶瓷一起形成或沉积单组分或多组分涂层。

联系我们

如果您有任何问题?

联系我们的团队,获取更多产品参数,报价及样品信息。

联系我们