Beneq 推出与集群兼容的全新原子层沉积设备系列，主要用于快速晶圆处理
Beneq 以其用于工业领域的快速原子层沉积 (ALD) 设备而声名远扬。Beneq 一直致力于将研究实验室的新原子层沉积应用全面推广到工业生产领域。Beneq 的大批量原子层沉积解决方案实现了全新的创新产品和涂层，而这些产品和涂层以前是工业规模无法实现的。原因很简单：Beneq 将原子层沉积设备的沉积速度、容量和生产能力提高到了一个全新的水平。
今天，我们在全新的超摩尔晶圆加工市场中启动了原子层沉积产能革命。
Beneq C系列 – 与集群兼容的原子层沉积设备，适用于大批量晶圆生产
11月14日在德国慕尼黑举行的欧洲最大的微电子科技盛会 Semicon Europa 上，Beneq C系列将闪耀亮相。这是一款与集群兼容的全新原子层沉积产品系列，主要用于大批量晶圆生产。
Beneq C2 – 自动化批量晶圆原子层沉积设备
Beneq C2 是一种与集群兼容的自动化晶圆原子层沉积系统，主要用于晶圆的工业化加工。它既有单晶圆版本，也有适用于批量生产的批量处理设备。Beneq C2 采用了批量处理与标准自动化传送的独特组合。集群中的每个加工模块每月可加工高达3万片晶圆（200毫米晶圆）。
Beneq C3R – 超快速高精度空间 ALD 镀膜
Beneq C3R 是一种用于大批量生产的超快速旋转等离子体增强原子层沉积(PEALD) 系统。它也一种与集群兼容的高精度空间原子层沉积设备。它使等离子体增强原子层沉积工艺达到了一个全新的水平 – PEALD 首次可用于大批量生产。通过等离子增强旋转原子层沉积工艺，Beneq C3R 非常适用于微米厚度的原子层沉积厚膜。
适用于新兴超摩尔市场的理想原子层沉积解决方案
我们的新产品为工业应用中的晶圆高性能原子层沉积提供了最佳解决方案。例如光学涂层、绝缘体和阻隔层、以及半导体和微机电系统工业中的大批量晶圆生产。它们的设计重点是新兴的超摩尔半导体市场，例如功率和射频器件、射频和压电式微机电系统、微机电系统传感器和执行器、图像传感器、液晶显示屏和OLED 显示屏。
我们期待与您相聚慕尼黑
如需了解有关 Beneq C系列设备和晶圆加工中的 ALD 产能革命的更多信息，请前往 Semicon Europa B1展厅#1767号展台，或访问Beneq C2的产品页面。