1,200×600×1,630
寸法
4
液体ソース
500 kg
重量
1または3
ガス・ソース
主要寸法
1,200mm×600mm×1,630mm（幅×奥行×高さ）
重量
500 kg
液体ソース
ソース数
4
容器容量
50 ml
温度範囲
室温～40℃
プラズマ・チャンバ
200mm×3mm（有効径×高さ）
粒子成膜チャンバ
フロー・スルー・チャンバ、総容積58ml
反応チャンバ
動作温度範囲
50～400℃
単一ウェハ・チャンバ
200mm×3mm（有効径×高さ）
ウェハ・バッチ／3次元チャンバ
200mm×95mm（有効径×高さ）
プラズマ・チャンバ
200mm×3mm（有効径×高さ）
粒子成膜チャンバ
フロー・スルー・チャンバ、総容積58ml
真空チャンバ
加熱方法
赤外線（IR）リフレクタを搭載した内部抵抗性チューブ・ヒータ
冷却方法
空冷
熱源（オプション）
ソース数
2
容器容量
200 ml
温度範囲
室温～200℃
ガス・ソース（オプション）
ソース数
1または3
プラズマALD（オプション）
動作原理
13.56MHzの容量結合プラズマ
電源
300 W
プラズマ・ガス数
2
低流量高アスペクト比（オプション）
動作原理
高アスペクト比構造までのプリカーサ拡散を向上させるための、排気流の制御下での低減