ALD 光学镀膜

在3D结构表面沉积均匀高保形的薄膜

保持光学性能需要高度的均匀性。这取决于光学规格,膜层厚度通常为1%左右。与PVD不同,ALD镀膜对于纳米结构的微观层面和任意形状光学器件的宏观层面,都是理想的解决方案。由于ALD通过饱和化学反应沉积薄膜层,因此能以原子级精度调整光学材料特性。这为工业批量化生产提供了出色的可重复性,并能有效地控制膜层厚度。

Beneq P400A: 在均匀性和产能之间实现完美平衡的ALD设备

与PVD相比,ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺能用大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化,可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形薄膜。

Beneq能为您提供专业的知识和软件,可根据您的要求独立设计每个ALD膜层,以此获得最佳的光学性能。

用于球型透镜的ALD镀膜

P400A 产品介绍

硅结构测试

在硅结构测试中沉积完美保形的ALD薄膜堆层

大曲面透镜

ALD是大曲面透镜的理想选择

大直径球型光学透镜的批量镀膜

测试球型透镜的示例
批量生产中,经过全方位角度测量,所有镀膜样品的薄膜不均匀性仅为1.2%

不会影响产量的优化方案

与PVD不同,ALD技术无需旋转基底材料。这意味着用更简单的方法就能达到更大的产量。Beneq P400A 实现了高均匀度、批量生产和高沉积率的独一无二的优化组合。Beneq ALD工艺技术满足了在复杂的3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。